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供应PECVD(等离子体增强化学汽相淀积)系统

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详细说明

    产品应用:主要用于生长钝化与多层布线介质用的氮化硅、氧化硅及掺杂等,以及在125mm×125mm或156mm×156mm太阳能硅片上淀积氮化硅减反射钝化膜。



产品特点:



◆ 用工控机对工艺时间,温度,气体流理,阀门动作,反应室压力实现全自动控制

◆ 采用进口压力控制系统,闭环系统,稳定性高

◆ 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路气密性

◆ 具有完善的报警功能及安全互锁装置

◆ 具有超高温报警,MFC报警,反应室压力报警,RF报警,高压空气压力报警,高压空气压力报警,N2压力报警,水流报警等

◆ 悬臂式送料装置

◆ 适合晶体硅太阳能新工艺的探索实验





主要技术指标:





1. 工作温度:150~500℃,

2. 装片数量(太阳能电池片):250片/每炉管(125mm×125mm) 192片/每炉管(156mm×156mm)

3. 压力调节范围:13~300Pa连续可调,闭环控制

4. 温度长度(150~500℃):1000mm

5. 温区稳定性:±2℃(450℃)

6. 淀积速率:30nm/min

7. 极限真空度:优于1Pa

8. 淀积膜均匀性:片内≤±5%

9. 射频单元:进口RF电源,40/400KHZ连续可调

 
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